Nghiên cứu chế tạo nguồn ion cho công nghệ IAD nâng cao chất lượng màng mỏng quang học / ThS. Nguyễn Thành Hợp (chủ nhiệm đề tài) , TS. Phạm Hồng Tuấn, ThS. Trần Thị Hà, KS. Nguyễn Ngọc Tú, KS. Nguyễn Tuấn Vũ, CN. Phạm Kim Thu. - Hà Nội : Trung tâm Quang điện tử , 2014. - 135+ phụ lực

   Nghiên cứu và chế tạo nguồn phát ion có thông số kỹ thuật và giá thành phù hợp với điều kiện ở Việt Nam; thử nghiệm làm sạch để bằng nguồn ion; tối ưu hóa thông số quá trình IAD chế tạo một số loại màng mỏng quang học thông dụng như màng Ta2O5, SiO2, màng Ag ứng dụng để mạ các: màng giảm phản xạ dải rộng cho vùng 380-700nm, gương phản xạ Ag độ bền cao, màng bán phản xạ. Khảo sát, đánh giá chất lượng màng mỏng quang học theo tiêu chuẩn Mil-C-14806-Mỹ; Thử nghiệm các quy định xác lập để mạ lên các sản phẩm ứng dụng cho kết quả tốt; đảm bảo màng mỏng có độ ổn định thông số quang học trước sự thăng giáng của nhiệt độ và độ ẩm; có độ bám dính cao giữa màng-đế, khả năng chống mài mòn tốt, khả năng chịu tác động ăn mòn hóa học; có độ chính xác quang phổ học cao; có giá tị ứng suất trong giới hạn cho phép.

Xem chi tiết

   Tìm kiếm cơ bản    Tìm kiếm nâng cao