|
Untitled Document
|
|
| |
MS đề tài |
93-0778KQ |
| |
Tên nhiệm vụ |
Chế tạo màng epitaxy silic trên đế silic từ pha hơi |
| |
Tổ chức chủ trì |
Nhà máy Z181 |
| |
Cơ quan chủ quản |
Bộ Quốc phòng |
| |
Cấp quản lý nhiệm vụ |
Quốc gia |
| |
Chủ nhiệm nhiệm vụ |
Nguyễn Quang Huân, KS |
| |
Lĩnh vực nghiên cứu |
20201. Kỹ thuật điện và điện tử |
| |
Thời gian
bắt đầu |
1981 |
| |
Thời gian
kết thúc |
1985 |
| |
Năm viết
báo cáo |
1986 |
| |
Nơi viết
báo cáo |
H. |
| |
Số trang |
9 tr. |
| |
Từ khoá |
Màng epitaxy silic; Công nghệ epitaxy; Linh kiện bán dẫn; Công nghệ bán dẫn |
| |
Nơi lưu trữ |
24 Lý Thường Kiệt, Hà Nội |
| |
Ký hiệu kho |
516 |
| |
|
| |
Trạng thái |
Đã nghiệm thu |
| |
|
Tìm kiếm cơ bản Tìm kiếm nâng cao
|
|
Copyright © by NASATI
Tel: 04-39349923 -
Fax: 04-39349127
|
|
